摘要:在第一期中我们介绍了金属硅的生产源头以及反应原理,这一期来梳理一下涉及金属硅生产过程的主要专业名词(中英文对照)
1金属硅产品等级 Product grade上一期提到了金属硅通常按其所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类标号为553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。(关于数字划分的原因,可点击文章最后“阅读原文”来查看上一篇文章) 既然金属硅有了不同的编号,那么问题来了,不同编号的金属硅又是怎么来划分用途的呢?一般来说,金属硅可以划分为冶金级和化学级。 • 冶金级Metallurgy • 化学级Chemistry 如题所示,冶金级金属硅主要用于生产硅铝合金,整体品质略低。化学级金属硅主要用于生产有机硅,三氯氢硅等用途。我国生产的金属硅(硅含量98.5%),最早主要是供冶金工业用,化学工业用金属硅(硅含量99%以上)的生产从90年代中期以来才有所发展。
典型构成及主要杂质含量对比 (单位:%) 组分 Component | | | 硅 Si | | | 铁 Fe | | | 钙 Ca | | | 铝 Al | | | 钛 Ti | | | 磷 P | |
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目前的趋势:从铝合金生产向化学生产转移 从产品结构来看,近几年多晶硅、有机硅行业的发展带动化学级金属硅产量占比逐年提高,2013年,化学级金属硅所占比例较2012年提升两个百分点至48%,初步估算2014年中国化学级金属硅产量所占比重将升至50%左右,特别是应用于有机硅领域的约占四分之一以上。
2工艺名称 Process names主要的工艺流程:
其它的工艺名称: 固炭比Fix Carbon Ratio 缺炭Under-cooking 炭过剩 Excess Carbon 炭亏 Carbon Deficit 产出、抽样 Tapping 热吹扫 Hot (white) blowing 反应活性 Reactivity 炭覆盖 Carbon coverage 筛选 Sizing 硅石热稳定性Thermal Stability of Quartz 沉渣 Sinking slag 间隙出硅 Batch tapping 连续出硅 Continuous tapping 电气管理 Electrical management 电极消耗 Electrode consumption 3设备 Equipment电弧炉 Arc Furnace
轴 Shaft 炉膛 Hearth 捣炉设备 Stoking equipment 抬包 Ladle X射线荧光光谱仪器 XRF 感应耦合等离子体 ICP 多孔塞子 Porous plug 出硅孔 Tapping hole 散装ISO货柜 Bulk iso-containers (本文中部分内容来自2013年金属硅大炉子生产技术培训班教材,作者,欧洲金属硅专家Daniel Bajelot) 有机硅论坛微信号:chinasilicon或扫描首页二维码关注
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