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多晶硅棒下面光滑上不粗糙原因

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    2023-8-15 15:26
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    [LV.5]常住居民I

    tangnaimei 发表于 2012-11-26 06:22:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
    多晶硅只沉积在硅棒,而在还原炉的底部没有,沉积条件怎样,原理是什么,为什么下部较光滑而上部粗糙呢?
        那是因为:上部由于横梁搭接处横梁和硅棒互相辐射导致温度较高,生长的快    只沉积在硅棒是因为硅棒是通电后发热,是得硅棒本身温度很高,从而达到反应温度而沉积在其表面;而其他部分如底盘未反应是因为其温度相对较底,而且还有冷却水进行冷却,所以不会在这些部位进行反应。 上部不光滑是因为热辐射较多,造成表面发热不均,从而沉积速度不一样。
    匿名  发表于 2012-12-14 11:22:00
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