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如何降低还原电耗以及表面菜花料现象

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    2023-2-1 11:52
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    [LV.1]初来乍到

    甘棠 发表于 2012-9-4 15:14:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
    1、菜花料形成

    三个主要原因:一是温度太高,二是气流分布不均匀,三是HCl等小分子产物在表面形成灼流层。其中温度是最为主要的原因。采用添加氢气进气量以及恒定电流以降低温度的办法来减少菜花料的形成。

    2、多晶硅供料曲线

    氢气与三氯氢硅的配比(摩尔比)和原料三氯氢硅的进料量是决定实收率和沉积速度的重要因素,对三氯氢硅氢还原的直接电耗也有着重要的影响。在一定范围内,氢气与三氯氢硅的摩尔比增加,三氯氢硅的单程转化率也随之升高。为了提高单程转化率,在一定范围内要提高氢气与三氯氢硅的摩尔比,但是随着氢气和三氯氢硅摩尔比的提高,在进入还原炉的三氯氢硅量不变的情况下,进入还原炉的氢气量随之增加,这将导致还原后为其回收的负荷增加。同时,过大的摩尔比也会造成硅棒便面三氯氢硅浓度减少,而导致沉积速率的下降,使单位生长周期内的多晶硅产量下降,从而造成单位产品的电耗费用上升,使单位产品的成本增加。而减少氢气与三氯氢硅的摩尔比,在进入还原炉的三氯氢硅量不变的情况下,由于三氯氢硅单程转化率下降,多晶硅沉积速度明显降低,沉积时间延长,为维持一定的沉积速度,需要加大三氯氢硅的量,导致未反应的三氯氢硅的量增加。这不仅会增加还原后尾气回收的负荷,也会提高尾气回收物料精馏分离的负荷。
    匿名  发表于 2012-9-5 07:24:00
    温度应该还是最主要的
    匿名  发表于 2012-9-5 09:10:00
    炉内电流控制和供料曲线应匹配
    匿名  发表于 2012-9-13 10:29:00
    现如今买方市场,多晶硅企业竞争更在于质量控制后售后方面的问题,所以硅棒在生产过程中严把质量关。

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