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本帖最后由 magicJ 于 2010-10-28 16:19 编辑
来源:中国氟硅创新网 中国氟硅论坛
10月17日~20日,以“21世纪有机硅的魅力和使命”为主题的第三届亚洲硅化学论坛(ASiS-Ⅲ)在杭州第一世界大酒店隆重召开。这是我国首次举办有机硅领域的大型国际学术会议,对推进我国有机硅科研与产业的国际交流与合作具有重大意义。来自国内外高校、科研单位及企业的专家和代表近500人参加了本次会议。
18日下午,在主会场后方展示了国内外学者的墙报,吸引了参会者的目光,现场气氛非常热烈。
墙报展现场照片
19日晚,借之江晚宴之际,给优秀poster作者颁奖,国内外获奖者共计十人。
颁奖现场照片
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