本帖最后由 hzaoxi 于 2010-7-29 13:46 编辑
有机硅行业的国际盛会——第三届亚洲硅化学论坛10月在杭州召开
“亚洲硅化学论坛”（ASiS）是亚洲有机硅学术界和产业界的国际性学术交流论坛。每两年在亚洲地区举办一次，第一届在日本仙台举行，第二届在韩国济州岛举行。中国氟硅有机材料工业协会承接亚洲硅化学论坛第三届会议（ASiS-Ⅲ），本次会议是我国首次举办有机硅领域的大型国际学术会议，将为我国有机硅领域科研院所、生产企业、研究人员提供国际层面的活动舞台和展示机会，直接推动我国有机硅科研与产业的国际交流与合作，意义重大。届时还有专门为大陆和台湾的专家、企业家代表准备的两岸论坛，供大家学习交流。
【组织机构】
主办单位：中国氟硅有机材料工业协会
国家自然科学基金委员会
承办单位：杭州师范大学（有机硅化学及材料技术教育部重点实验室）
中蓝晨光化工研究院有限公司（国家有机硅工程技术研究中心）
浙江省氟硅化学品科技创新服务平台
协办单位：中国科学院化学研究所
山东大学
武汉大学
指定媒体：中国氟硅创新网（www.zjfsi.com）
【会议时间】
会议时间：2010年10月17-20日
会议地点：杭州第一世界大酒店
【学术顾问】
卓仁禧、谢择民
【两岸论坛】
第三届亚洲硅化学论坛得到了台湾有机硅行业同仁的积极响应和支持，两岸有机硅产学研代表就建立两岸有机硅广泛的交流与合作达成了共识，并将论坛召开期间举行“第一届有机硅两岸论坛”，在研讨两岸有机硅科技成果及产业动向的同时，探讨两岸产学研交流和合作机制，推动两岸有机硅事业更快、更好地发展。
【会务费】
参会人员类别
| 参会费用（元/人）
| 企业参会人员
| 2000元
| 学生/博士后
| 900元
| 陪同人员
| |
备注：
1.会务费包括注册费、会议资料、会场费、餐费等，参会人员的往返交通费和住宿费自理。
2.会务费发票凭汇款底单复印件和参会确认表在会议报到处统一领取；
3.学生/博士后需提供相关证件，陪同人员不安排会场座席。
【会务联系】
联系人：尉力文 毛文瑛 蒋剑雄 倪勇
地址：浙江省杭州市文一路222号杭州师范大学2号楼416室
邮编：310012
电话：0571-86824942
28862271
传真：0571-56287935
网上查询：http://www.asis3.org
E-mail：asis3@sina.com
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