第三届亚洲硅化学论坛征文通知

第三届亚洲硅化学论坛征文通知

主办单位：
中国氟硅有机材料工业协会
承办单位：
杭州师范大学（教育部有机硅化学及材料技术重点实验室）
中蓝晨光化工研究院有限公司（国家有机硅工程技术研究中心）
协办单位：
中国科学院化学研究所，山东大学，武汉大学
会议时间、地点：
时间：2010年10月18日－19日
地点：杭州花港海航度假酒店
会议情况简介：
亚洲硅化学论坛是全球四大有机硅国际学术会议之一，每二年在亚洲地区举办一次。第一届2007年在日本举行，第二届2008年在韩国与第15届国际有机硅化学论坛同期举行，两届亚洲硅化学论坛都云集了全球有机硅领域的顶级科学家、大公司技术高层和亚洲地区的科研技术人员，为亚洲有机硅学术和产业提供了良好的交流平台，有力促进了亚洲硅学术界和产业界的相互了解和合作。
为了进一步加强中国与亚洲各国在硅领域的合作和交流，提高我国在有机硅行业的国际地位，中国氟硅有机材料工业协会接办由中日韩发起的亚洲硅化学论坛的第三届会议（ASiS-III），这是我国首次举办有机硅领域的大型国际学术会议，对推进我国有机硅科研与产业的国际交流与合作具有重大意义。

征文范围：
此次会议的主题是“21世纪有机硅的魅力和使命”，征文范围：
1）有机硅新化合物和新工艺
2）
无机硅化学
3）
有机硅化学
4）有机硅聚合物和低聚物
5）有机硅材料
6）有机合成中的硅化学
7）有机硅仿生学

8）有机硅理论和结构化学
9）硅-过渡金属化学
10）
有机硅化学的其它方面
会议形式包括大会报告、分会场报告、墙报和赞助商展示等形式，大会主题报告邀请本领域的顶尖科学家，共同探讨硅领域的科学前沿与未来。

论文征集要求：
1、论文语言为英文。
2、论文需紧扣本会议主题，观点明确，图文并茂，不超过4000字。
3、论文格式：1）请在文章的首页注明作者详细联系方式、电话、电子邮件和研究领域；2）200字左右的中英文内容摘要；3）3—5个关键词；4）正文；5）注明参考文献。
4、论文采用Word排版，A4版面。投稿方式：请以电子邮件的方式投稿，发送到：fgeorge@21cn.com
5、论文送交的截止日期为2010年6月31日。

会议安排及相关事项：
1、
会议地址：杭州市西湖区杨公堤1号杭州花港海航度假酒店

2、
会务费

	2010年6月31日前	2010年7月1日后或现场注册
参会人员	1500元	2000元
学生/ 博士后	600元	800元
陪同人员	300元	400元

会务费用说明：会务费包括注册费、会议资料、会场费、餐费；参会人员的往返交通费和住宿费自理。
3、
联系方式
电子邮件：fgeorge@21cn.com
电话：0571-28868195
传真：0571-28865135
网上查询：http://www.asis3.org/
4、 注册
在线注册从2009年9月1日开始，更详细的信息请浏览网站：http://www.asis3.org/