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1.2.9氢化气干法分离工序
从四氯化硅氢化工序来的氢化气经此工序被分离成氯硅烷液体、氢气和氯化氢气体,分别循环回装置使用。
氢化气干法分离的原理和流程与三氯氢硅合成气干法分离工序十分类似。从变温变压吸附器出口得到的高纯度氢气,流经氢气缓冲罐后,返回四氯化硅氢化工序参与四氯化硅的氢化反应;吸附再生的废气送往废气处理工序进行处理;从氯化氢解析塔顶部得到提纯的氯化氢气体,送往放置于三氯氢硅合成工序的循环氯化氢缓冲罐;从氯化氢解析塔底部引出的多余的氯硅烷液体(即从氢化气中分离出的氯硅烷),送入氯硅烷贮存工序的氢化氯硅烷贮槽。
1.2.10氯硅烷贮存工序
本工序设置以下贮槽:100m1氯硅烷贮槽、100m1工业级三氯氢硅贮槽、100m1工业级四氯化硅贮槽、100 m1氯硅烷紧急排放槽等。
从合成气干法分离工序、还原尾气干法分离工序、氢化气干法分离工序分离得到的氯硅烷液体,分别送入原料、还原、氢化氯硅烷贮槽,然后氯硅烷液体分别作为原料送至氯硅烷分离提纯工序的不同精馏塔。
在氯硅烷分离提纯工序1级精馏塔顶部得到的三氯氢硅、二氯二氢硅的混合液体,在4、5级精馏塔底得到的三氯氢硅液体,及在6、8、10级精馏塔底得到的三氯氢硅液体,送至工业级三氯氢硅贮槽,液体在槽内混合后作为工业级三氯氢硅产品外售。
1.2.11硅芯制备工序
采用区熔炉拉制与切割并用的技术,加工制备还原炉初始生产时需安装于炉内的导电硅芯。硅芯制备过程中,需要用氢氟酸和硝酸对硅芯进行腐蚀处理,再用超纯水洗净硅芯,然后对硅芯进行干燥。酸腐蚀处理过程中会有氟化氢和氮氧化物气体逸出至空气中,故用风机通过罩于酸腐蚀处理槽上方的风罩抽吸含氟化氢和氮氧化物的空气,然后将该气体送往废气处理装置进行处理,达标排放。
1.2.12产品整理工序
在还原炉内制得的多晶硅棒被从炉内取下,切断、破碎成块状的多晶硅。用氢氟酸和硝酸对块状多晶硅进行腐蚀处理,再用超纯水洗净多晶硅块,然后对多晶硅块进行干燥。酸腐蚀处理过程中会有氟化氢和氮氧化物气体逸出至空气中,故用风机通过罩于酸腐蚀处理槽上方的风罩抽吸含氟化氢和氮氧化物的空气,然后将该气体送往废气处理装置进行处理,达标排放。经检测达到规定的质量指标的块状多晶硅产品送去包装。
1.2.11废气及残液处理工序
1、含氯化氢工艺废气净化
SiHCl1提纯工序排放的废气、还原炉开停车、事故排放废气、氯硅烷及氯化氢储存工序储罐安全泄放气、CDI吸附废气全部用管道送入废气淋洗塔洗涤。
废气经淋洗塔用10%NaOH连续洗涤后,出塔底洗涤液用泵送入工艺废料处理工序,尾气经15m高度排气筒排放。
2、残液处理
在精馏塔中排出的、主要含有四氯化硅和聚氯硅烷化合物的釜地残液以及装置停车放净的氯硅烷残液液体送到本工序加以处理。
需要处理的液体被送入残液收集槽。然后用氮气将液体压出,送入残液淋洗塔洗涤。采用10%NaOH碱液进行处置。废液中的氯硅烷与NaOH和水发生反应而被转化成无害的物质(处理原理同含氯化氢、氯硅烷废气处理)。
1、酸性废气
硅芯制备和产品整理工序产生的酸性废气,经集气罩抽吸至废气处理系统。酸性废气经喷淋塔用10%石灰乳洗涤除去气体中的含氟废气,同时在洗涤液中加入还原剂氨,将绝大部分NOx还原为N2和H2O。洗涤后气体经除湿后,再通过固体吸附法(以非贵重金属为催化剂)将气体中剩余NOx用SDG吸附剂吸附,然后经20m高度排气筒排放。
1.2.14废硅粉处理
来自原料硅粉加料除尘器、三氯氢硅合成车间旋风除尘器和合成反应器排放出来的硅粉,通过废渣运料槽运送到废渣漏斗中,进入到带搅拌器的酸洗管内,在通过11%的盐酸对废硅粉(尘)脱碱,并溶解废硅中的铝、铁和钙等杂质。洗涤完成后,经压滤机过滤,废渣送干燥机干燥,干燥后的硅粉返回到三氯氢硅合成循环使用,废液汇入废气残液处理系统废水一并处理。
从酸洗罐和滤液罐排放出来的含HCl废气送往废气残液处理系统进行处理。
1.2.15 工艺废料处理工序
1、Ⅰ类废液处理
来自氯化氢合成工序负荷调整、事故泄放废气处理废液、停炉清洗废水、废气残液处理工序洗涤塔洗涤液和废硅粉处理的含酸废液在此工序进行混合、中和、沉清后,经过压滤机过滤。滤渣(主要为SiO2)送水泥厂生产水泥(见附件)。沉清液和滤液主要为为高浓度含盐废水,含NaCl 200 g/L以上,该部分水在工艺操作与处理中不引入钙镁离子和硫酸根离子,水质满足氯碱生产要求,因此含盐废水管道输送至四川永祥股份有限公司烧碱生产线作为生产原料回收利用(见附件)。蒸发冷凝液回用配置碱液。
2、Ⅱ类废液处理
来自硅芯制备工序和产品整理工序的废氢氟酸和废硝酸及酸洗废水,用10%石灰乳液中和、沉清后,经过压滤机过滤,滤渣(主要为CaF2)送水泥厂生产水泥(见附件)。沉清液和滤液主要为硝酸钙溶液,经蒸发、浓缩后,做副产品外售(见附件)。蒸发冷凝液回用配置碱液。 |
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