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有机硅»首页 › ≡ 资源专区 ≡ › 标准专利检测方法 › [求助]二甲基硅氧烷混合环体中的铁含量测定方法
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[检测] [求助]二甲基硅氧烷混合环体中的铁含量测定方法

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lanruihua 发表于 2010-7-6 10:55:02 | 显示全部楼层 |阅读模式
如题。最近公司在搞二甲基硅氧烷混合环体，据说高端产品要求其中的铁含量不能超标，因此需要铁含量测定方法。公司请的专家就丢了句“可用微波消解——原子吸收光谱法测”就飘走了。后查该混合环体闪点才100多，分析中心领导不让做，怕爆炸，但生产部门的领导又催得紧。国家标准GB/T20436-2006二甲基硅氧烷混合环体已查，未见铁含量测定部分。请论坛上各位大大帮忙，在线等。谢谢！
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  • TA的每日心情
    无聊
    2021-9-3 10:52

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    [LV.3]偶尔看看II
    123 发表于 2010-7-7 11:17:12 | 显示全部楼层
    此帖没有人跟,我也希望知道方法
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    tristan 发表于 2010-7-7 14:05:12 | 显示全部楼层
    先烧掉行不行？
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    ygq9394 发表于 2010-7-7 14:43:34 | 显示全部楼层
    微量的铁离子要采用化学分析真的很难类 专家说的对着呢 就要仪器进行痕量分析 消解后用ICP检测
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     楼主| lanruihua 发表于 2010-7-31 15:10:28 | 显示全部楼层
    楼上的，请问有具体的操作方法么？用微波消解因为待测物闪点低，怕爆炸……
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    tallhill 发表于 2010-11-10 17:31:35 | 显示全部楼层
    估计是没有人知道了，顶一下
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    硅氟神工 发表于 2010-11-15 15:51:19 | 显示全部楼层
    先用加标的方式用化学络合来测定一个大概区间，如果仪器检测有问题不好操作，那么用线性回归或是分布的方式建模看看有没有办法吧，呵呵，不擅长，随便说说吧。
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    Soledad 发表于 2010-12-2 15:24:26 | 显示全部楼层
    我想测D4中离子含量，分析中心说不能消解的 话就没法测ICP，这个消解真是个大问题！！
    请论坛上各位大侠指点下。。。。
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  • TA的每日心情
    无聊
    2021-9-3 10:52

    • 签到天数: 8 天

    [LV.3]偶尔看看II
    123 发表于 2011-3-24 09:43:10 | 显示全部楼层
    想知道楼主的问题是否解决，解决的方法是否可以透露
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    浪花之家 发表于 2015-4-22 19:35:45 | 显示全部楼层
    可以湿法消解，用HF和HNO3，然后用ICP进行测定
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