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本帖最后由 cspc 于 2020-3-26 17:51 编辑
黑马哥,这两年我对有机硅单体合成流化床反应器的分布器反思,国内外用的最多的是有分布器的流化床,也有少数半分布器的流化床,再就是DC的无分布器的流化床。我认为分布器的出现,是目前大家都认可的鼓泡理论得来。氯甲烷通过分布器鼓泡,目前大家都认可的流化床内的氯甲烷气泡内无硅粉,所以其内部是没有化学反应的,所以气泡占用流化床内部有效反应空间,所以,希望气泡越小越好,于是就出现了分布器上万个或几万个小孔,美其名均匀分布,为了这个均匀分布,国内外的专家设计出了各种各样小孔的排列组合,但我认为他们忽略了流化床内气体返混和固体返混现象,固体返混现象有利于反应,气体返混是不利于反应的;无分布器的设计,氯甲烷作为载气与硅粉一起从床底向上喷入,可以简单理解为一个很大氯甲烷气泡,其直径等于反应器内径,这个气泡特色是里面充满硅粉,这个气泡内部是有化学反应的;半分布器的流化床的设计基于这两种设计,有兴趣的朋友可以详细私聊。 |
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