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本帖最后由 sdsilicon 于 2019-1-16 11:40 编辑
1. 硅粉表面被铜粉覆盖,这样的说法值得讨论。应该是“硅粉表面被一层铜覆盖”。
2. 按接触催化机理来说,首先是形成金属互化物,然后在此位点生成氯硅烷同时生成铜。所以铜是在硅粉表面原位生成的,铜这一层应该非常薄。
3. 打开装置时,吸附在铜位点的氯硅烷、氯甲烷这些物质都跑掉了,剩下铜,于是就看到“硅粉表面被一层铜覆盖”
4. 从我的理解来看,应该是硅粉颗粒逐渐变小,直到消失。但是考虑到① 本来硅粉就很小 ② 硅粉表面被铜覆盖,小颗粒容易被当做是铜粉。所以,认为硅粉颗粒尺寸在流化床上没有变化的情况,也得到了解释。
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